삼성전자는 D램, 낸드, 파운드리까지 생산하는 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다. 평택 2라인은 연면적 12만8900㎡(축구장 16개 크기)에 달한다.

삼성전자 평택2라인

이 라인에서는 업계에서는 처음으로 극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. 평택 2라인에서 출하되는 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산 제품으로는 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한다.

이번 제품은 기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램(LPDDR5, 5500Mb/s)보다 16% 빠른 6400Mb/s의 동작 속도를 낸다. 16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 약 10편에 해당하는 51.2GB(기가바이트)를 처리할 수 있다.

또한 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품(12Gb 칩 8개 + 8Gb 칩 4개)보다 30% 더 얇은 패키지를 만들 수 있다. 멀티카메라, 5G 등 부품수가 많은 스마트폰과 폴더블폰 같이 두께가 중요한 제품에 활용된다.

삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 이정배 부사장은 “이번 1z나노 16Gb LPDDR5는 역대 최고 개발 난도를 극복하고 미세공정 한계 돌파를 위한 새로운 패러다임을 제시한 제품”이라고 강조했다.

1z나노 기반 16GB LPDDR5 모바일D램

평택 2라인은 이번 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어졌다. 삼성전자는 평택 2라인에 지난 5월 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위한 파운드리 생산라인을 착공했으며 6월에는 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하기 위한 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인 모두 2021년 하반기부터 본격 가동할 예정이다.

이번 평택 2라인은 2018년 8월에 발표한 180조 원 투자, 4만 명 고용 계획의 일환으로 건설된 것이라는 게 삼성전자 설명이다.

이에 따라 평택 1라인에 이어 평택 2라인에도 총 30조 원 이상의 대규모 투자가 집행된다. 직접 고용 인력은 약 4000명으로 예상되고 협력사 인력과 건설인력을 포함하면 약 3만 명 이상의 고용창출이 기대된다. 2015년부터 조성된 삼성전자 평택캠퍼스는 289만㎡ 부지의 삼성전자 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작했으며 평택 2라인은 2018년 1월 착공됐다. 정옥재 기자 littleprince@kookje.co.kr