±¹³» ¿¬±¸ÁøÀÌ '²ÞÀÇ ½Å¼ÒÀç'·Î ºÒ¸®´Â ±×·¡ÇÉ Çʸ§À» ´ë·® »ý»êÇÏ´Â ±â¼úÀ» °³¹ßÇÏ°í, À̸¦ ½º¸¶Æ®Æù¿¡ Àû¿ëÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇß´Ù.
10ÀÏ ±¹Á¦ ÇмúÁö ACS³ª³ë ÃÖ±ÙÈ£¿¡ µû¸£¸é, ¼¿ï´ë ÈÇаú È«º´Èñ ±³¼ö¿Í »ï¼ºÅ×Å©À© µîÀÌ Âü¿©ÇÑ ¿¬±¸ÆÀÀº 'RT-CVD'(Rapid thermal chemical vapor depo
sition¡¤°í¼Ó¿ÈÇбâ»óÁõÂø) ±â¼ú·Î ¸éÀûÀÌ 400X300§± ÀÌ»óÀÎ ±×·¡ÇÉ Çʸ§À» ´ë·® »ý»êÇß´Ù.
¶Ç ÀÌ ±â¼ú·Î »ý»êÇÑ ±×·¡ÇÉ Çʸ§À» »ï¼ºÀüÀÚ ½º¸¶Æ®ÆùÀÇ ¸ÖƼÅÍÄ¡ ½º
Å©¸°¿¡ Àû¿ëÇß´Ù.
±×·¡ÇÉÀº ±¸¸®º¸´Ù Àü±âÀüµµ¼ºÀÌ ¶Ù¾î³ª°í °Ã¶º¸´Ù °µµ°¡ ³ôÀ¸¸ç ÈÇÐÀûÀ¸·Î ¸Å¿ì ¾ÈÁ¤µÅ ÀÖ¾î '²ÞÀÇ ½Å¼ÒÀç'·Î ºÒ¸°´Ù.
±×·¯³ª Å©±â, ±ÕÀϼº, ¾ÈÁ¤¼º ¹®Á¦ µîÀÌ »ê¾÷ ±Ô°Ý¿¡ ¸ÂÁö ¾Ê¾Æ ½ÇÁ¦ ÀüÀÚÁ¦Ç°¿¡ Àû¿ëµÇ´Â µ¥´Â ¾î·Á¿òÀ» º¸ÀÌ°í ÀÖ´Ù.
¿¬±¸ÆÀÀº ¶ó¸¸ºÐ±¤¹ýÀ¸·Î RT-CVD ±×·¡ÇÉÀÇ ±ÕÀϼº°ú ¾ÈÁ¤¼ºÀ» È®ÀÎÇß´Ù.
RT-CVD ±â¼úÀº °¡¿¡¤³Ã°¢ °úÁ¤ÀÌ »¡¶ó ±×·¡ÇÉ Çʸ§À» ´õ¿í ºü¸£°í Å©°Ô ¸¸µé ¼ö ÀÖ°í, ³·Àº ¿Âµµ Á¶°Ç¿¡¼µµ ±×·¡ÇÉÀ» »ý»êÇÒ ¼ö ÀÖ´Â °ÍÀÌ Æ¯Â¡ÀÌ´Ù.
¿¬ÇÕ´º½º