- ±¹¸³ºÎ°æ´ë °øµ¿¿¬±¸ÆÀ, ¡®³ª³ë½Ãµå¡¯ ±â¼ú·Î »ó¿ë SLA 3D ÇÁ¸°ÅÍ ÇØ»óµµ ÇÑ°è ±Øº¹
 |
| ³ª³ëÆÐÅÏÀÌ Àû¿ëµÈ 3D ÇÁ¸°ÆÃ ºÒ»ó Á¶Çü¹°°ú ÇØ´ç ¿µ¿ª È®´ë À̹ÌÁö(¿ÞÂÊ), PMMA ³ª³ë½Ãµå¿Í Ãʹڸ· À庮ÃþÀ» ÀÌ¿ëÇÑ SLA °øÁ¤ ¿ø¸®(¿À¸¥ÂÊ À§), 50³ª³ë¹ÌÅÍ±Þ ¼± ÆÐÅϰú ³ª³ë½Ãµå-¼öÁö °è¸é¿¡ Çü¼ºµÈ Pt À庮Ãþ(¿À¸¥ÂÊ ¾Æ·¡).
|
»ó¿ë ±¤Á¶Çü(SLA) 3D ÇÁ¸°Å͸¸À¸·Î ±âÁ¸¿¡´Â ±¸ÇöÇϱ⠾î·Á¿ü´ø 50³ª³ë¹ÌÅÍ(nm, 10¾ïºÐÀÇ 1m) ÀÌÇÏÀÇ Ãʹ̼¼ Ç¥¸é ÆÐÅÏÀ» ÀÚÀ¯·Î¿î 3Â÷¿ø ±¸Á¶¹°¿¡ ±¸ÇöÇÏ´Â ¡®³ª³ë½Ãµå(Nano-Seed) º¸Á¶ ±¤Á¶Çü(SLA) ±â¼ú¡¯ÀÌ °³¹ßµÆ´Ù.
¹Ì±¹ ³ë½º¿þ½ºÅÏ´ëÇб³(Northwestern University) ¹ÚÅÂ¿Ï ¹Ú»ç¿Í ¿ï»ê°úÇбâ¼ú¿ø(UNIST) °Àººó ¹Ú»ç°úÁ¤»ý, ±¹¸³ºÎ°æ´ëÇб³ °¿µ¸² ¼®»ç°¡ Âü¿©ÇÑ ±¹¸³ºÎ°æ´ë ¹Ú¿îÀÍ ±³¼ö(Àç·á°øÇÐÀü°ø) ¿¬±¸ÆÀÀÌ ´ë±¸°æºÏ°úÇбâ¼ú¿ø(DGIST) À̹μ± ±³¼ö ¿¬±¸ÆÀ ¹× ¹Ì±¹ ½ºÅÄÆÛµå´ëÇб³ Á¤ ´ÙÀֳ̾ª ¹Ú»ç ¿¬±¸ÆÀ°ú °øµ¿¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÑ ¼º°ú´Ù.
¿¬±¸ÆÀÀº ƯÈ÷ º¹ÀâÇÑ Çü»óÀÇ ºÒ»ó Á¶Çü¹° ¸Ó¸®¿Í À̸¶ ºÎÀ§¿¡µµ ³ª³ëÆÐÅÏÀ» ±¸ÇöÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇØ, Ãʹ̼¼ Ç¥¸é ±¸Á¶¿Í ÀÚÀ¯·Î¿î 3D ÇÁ¸°ÆÃÀ» ÇϳªÀÇ °øÁ¤À¸·Î ±¸ÇöÇÒ ¼ö ÀÖÀ½À» ÀÔÁõÇß´Ù.
±¤Á¶Çü(Stereolithography, SLA)Àº ºûÀ¸·Î ¾×ü ¼öÁö¸¦ ±»Çô ÀÔü ±¸Á¶¹°À» ¸¸µå´Â ´ëÇ¥ÀûÀÎ 3D ÇÁ¸°ÆÃ ±â¼úÀÌ´Ù. Ç¥¸éÀÌ ¸Å²ô·´°í Á¤¹ÐÇÑ Çü»óÀ» ±¸ÇöÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù´Â ÀåÁ¡ÀÌ ÀÖÁö¸¸, ºûÀÇ È¸Àý°ú ¼öÁö ³»ºÎ¿¡¼ ÀϾ´Â ±¤ÁßÇÕ ¹ÝÀÀÀÇ È®»ê ¶§¹®¿¡ ³ª³ë¹ÌÅÍ ¼öÁØÀÇ Ãʹ̼¼ Ç¥¸é ±¸Á¶¸¦ Á÷Á¢ ±¸ÇöÇÏ´Â µ¥¿¡´Â ÇѰ谡 ÀÖ¾ú´Ù.
½ÇÁ¦·Î À̹ø ¿¬±¸¿¡ »ç¿ëµÈ »ó¿ë SLA 3D ÇÁ¸°ÅÍ´Â ³ª³ë½Ãµå¸¦ Àû¿ëÇÏÁö ¾Ê¾ÒÀ» °æ¿ì ÃÖ¼Ò ¾à 250¸¶ÀÌÅ©·Î¹ÌÅÍ(¥ìm, 100¸¸ºÐÀÇ 1m) ÆøÀÇ ¼±¸¸ ¾ÈÁ¤ÀûÀ¸·Î ±¸ÇöÇÒ ¼ö ÀÖ¾ú´Ù. ¹Ý¸é ¿¬±¸ÁøÀº ³ª³ë½Ãµå ±â¼úÀ» Àû¿ëÇØ 50³ª³ë¹ÌÅÍ ÀÌÇÏÀÇ Ãʹ̼¼ ¼±ÆøÀ» ±¸ÇöÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇß´Ù. ±âÁ¸ »ó¿ë ÇÁ¸°ÅÍÀÇ ±¸Çö ÇѰ躸´Ù ¾à 5,000ºÐÀÇ 1 ¼öÁرîÁö ¹Ì¼¼ÇÑ ±¸Á¶¸¦ ±¸ÇöÇÑ °ÍÀÌ´Ù. ÀÌ´Â »ç¶÷ ¸Ó¸®Ä«¶ô ±½±âÀÇ ¾à 1,000ºÐÀÇ 1¿¡ ÇØ´çÇÑ´Ù.
¿¬±¸ÁøÀº ½Ç¸®ÄÜ(Si) ¸¶½ºÅÍ ¸ôµåÀÇ ³ª³ëÆÐÅÏÀ» Æú¸®¸ÞÆ¿¸ÞŸũ¸±·¹ÀÌÆ®(PMMA) ¹Ú¸·¿¡ º¹Á¦ÇÑ ¡®³ª³ë½Ãµå¡¯¸¦ 3D ÇÁ¸°ÅÍÀÇ ºôµåÇ÷¹ÀÌÆ®¿¡ ºÎÂøÇϰí, ±× À§¿¡ ¾à 30³ª³ë¹ÌÅÍ(nm) µÎ²²ÀÇ Ãʹڸ· ¹«±â Â÷´ÜÃþÀ» Çü¼ºÇÏ´Â ¹æ½ÄÀ» °í¾ÈÇß´Ù. ÀÌ Â÷´ÜÃþÀº ¼öÁö¿Í ³ª³ë½Ãµå°¡ ¼·Î ¼¯ÀÌ´Â °ÍÀ» ¸·°í ±¤°æÈ ¹ÝÀÀÀÌ °è¸é¿¡¼¸¸ ÀϾµµ·Ï À¯µµÇØ ³ª³ëÆÐÅÏÀÌ Á¤¹ÐÇÏ°Ô Àü»çµÇµµ·Ï ÇÑ´Ù.
À̸¦ ÅëÇØ ¿¬±¸ÁøÀº 250³ª³ë¹ÌÅÍ(§¬)ºÎÅÍ 2¸¶ÀÌÅ©·Î¹ÌÅÍ(§) Å©±âÀÇ Á¡, ±¸¸Û, ¹°°á, ½ÊÀÚÇü µî ´Ù¾çÇÑ ³ª³ëÆÐÅÏÀ» ³ôÀº Á¤¹Ðµµ·Î ±¸ÇöÇß´Ù. ƯÈ÷ 50³ª³ë¹ÌÅÍ ÀÌÇÏÀÇ Ãʹ̼¼ ¼± ÆÐÅϵµ ¼º°øÀûÀ¸·Î ±¸ÇöÇßÀ¸¸ç, ³ª³ëÆÐÅÏÀ» ÃÖ´ë 45¡¿75¹Ð¸®¹ÌÅÍ(mm), Áï ¸íÇÔ Å©±â¿¡ °¡±î¿î ³ÐÀº ¸éÀû±îÁö ±ÕÀÏÇÏ°Ô Çü¼ºÇØ ´ë¸éÀû °øÁ¤ °¡´É¼ºµµ È®ÀÎÇß´Ù.
¿¬±¸ÁøÀº °³¹ßÇÑ ±â¼úÀ» ½ÇÁ¦ 3D ÇÁ¸°ÆÃ Á¶Çü¹°¿¡µµ Àû¿ëÇØ ½Ç¿ë¼ºÀ» °ËÁõÇß´Ù. ±âÁ¸¿¡´Â ³ª³ë¹ÌÅÍ ¼öÁØÀÇ Á¤¹ÐÇÑ Ç¥¸é ±¸Á¶¸¦ ÀÚÀ¯°î¸éÀ» °¡Áø º¹ÀâÇÑ 3Â÷¿ø Çü»ó¿¡ ±¸ÇöÇϱ⠾î·Á¿üÁö¸¸, À̹ø ±â¼úÀ» ÀÌ¿ëÇØ ºÒ»ó Á¶Çü¹°ÀÇ ¸Ó¸®¿Í À̸¶ ºÎÀ§¿¡ ³ª³ëÆÐÅÏÀ» ±¸ÇöÇÏ´Â µ¥ ¼º°øÇß´Ù. ³ª³ëÆÐÅÏÀÌ »õ°ÜÁø º°µµ ºÎǰÀ» Á¦ÀÛÇØ ºÒ»ó¿¡ Á¶¸³ÇÏ´Â ¹æ½ÄÀº ¹°·Ð, º°µµÀÇ Á¶¸³ °úÁ¤ ¾øÀÌ ÇÁ¸°ÆÃ °úÁ¤¿¡¼ ³ª³ëÆÐÅÏÀÌ Æ÷ÇÔµÈ ºÒ»óÀ» ÇϳªÀÇ ÀÏüÇü ±¸Á¶¹°·Î Á÷Á¢ Á¦ÀÛÇÏ´Â µ¥µµ ¼º°øÇß´Ù. ÀÌ´Â ±âÁ¸¿¡´Â Èİ¡°øÀ̳ª º°µµ Á¶¸³ÀÌ ÇÊ¿äÇß´ø ³ª³ëÆÐÅÏÀ» 3D ÇÁ¸°ÆÃ °øÁ¤ ¾È¿¡¼ µ¿½Ã¿¡ ±¸ÇöÇÒ ¼ö ÀÖÀ½À» º¸¿©ÁÖ´Â ¼º°ú·Î, ³ª³ë¹ÌÅÍ±Þ Ç¥¸é ÆÐÅÍ´×°ú ÀÚÀ¯·Î¿î 3Â÷¿ø Çü»ó Á¦ÀÛÀ» ÇϳªÀÇ Á¦Á¶ °øÁ¤À¸·Î ÅëÇÕÇß´Ù´Â µ¥ Àǹ̰¡ ÀÖ´Ù.
À̹ø ¿¬±¸´Â ³ª³ëÆÐÅÍ´× ±â¼ú°ú 3D ÇÁ¸°ÆÃ ±â¼úÀ» °áÇÕÇÑ »ç·Ê·Î, ±¤ÇÐÀû Ư¼ºÀ» Áö´Ñ Ç¥¸é, À§º¯Á¶ ¹æÁö º¸¾È ¸¶Å·, Á¢Âø ¹× À¯Ã¼ Ư¼ºÀ» Á¦¾îÇÏ´Â »ýü¸ð»ç Ç¥¸é µî ´Ù¾çÇÑ ºÐ¾ß¿¡ Àû¿ëµÉ °¡´É¼ºÀ» Á¦½ÃÇß´Ù.
¹Ú¿îÀÍ ±³¼ö´Â ¡°À̹ø ¿¬±¸´Â »ó¿ë 3D ÇÁ¸°ÅÍÀÇ ±¤ÇÐ ÀåÄ¡¸¦ º¯°æÇÏÁö ¾Ê°íµµ ÇÁ¸°ÆÃ °è¸éÀ» Á¤¹ÐÇÏ°Ô Á¦¾îÇØ ³ª³ë¹ÌÅÍ ¼öÁØÀÇ Ç¥¸é ±¸Á¶¸¦ ±¸ÇöÇß´Ù´Â µ¥ Àǹ̰¡ ÀÖ´Ù¡±¸ç ¡°ÇâÈÄ ±¤ÇС¤Æ÷Åä´Ð Ç¥¸é, À§Á¶ ¹æÁö Ç¥½Ä, ¹ÙÀÌ¿À ¸ð»ç ±¸Á¶¿Í ´Ù¾çÇÑ ±â´É¼º 3D ÇÁ¸°ÆÃ ºÎǰ Á¦ÀÛ¿¡ Ȱ¿ëµÉ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÑ´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.
À̹ø ¿¬±¸¿¡´Â ¹ÚÅÂ¿Ï ¹Ú»ç, °Àººó ¹Ú»ç°úÁ¤»ý, °¿µ¸² ¼®»ç°¡ °øµ¿ Á¦1ÀúÀÚ·Î Âü¿©ÇßÀ¸¸ç, ±¹¸³ºÎ°æ´ë ±èÀ¯³ª ¼®»ç, °À¯Áø Çкλý, ¹é°ÁØ ±³¼ö, ±è¼º´ë ±³¼ö¿Í UNIST Á¤ÈÄ¿µ ±³¼ö, ¹Ì±¹ ͏®Æ÷´Ï¾Æ´ëÇб³ µ¥À̺ñ½º(UC Davis) È«½Â»õ ±³¼ö°¡ °øµ¿ÀúÀÚ·Î Âü¿©Çß´Ù. ±³½ÅÀúÀÚÀÎ ¹Ú¿îÀÍ ±³¼ö´Â ±¹¸³ºÎ°æ´ë¿Í UC Davis, ¢ß¶ó³ë¿¥¿¡ °øµ¿ ¼Ò¼ÓµÅ ÀÖ´Ù.
À̹ø ¿¬±¸´Â °úÇбâ¼úÁ¤º¸Åë½ÅºÎ°¡ Áö¿øÇϰí Çѱ¹¿¬±¸Àç´ÜÀÌ °ü¸®ÇÏ´Â ¿¬±¸°úÁ¦·Î ¼öÇàµÆÀ¸¸ç, ¿¬±¸ ¼º°ú´Â ±¹Á¦ ÇмúÁö ¡ºSmall Structures¡»¿¡ ¡®Sub-50 nm Surface Nanopatterning via Nano-Seed Assisted Stereolithography¡¯¶ó´Â Á¦¸ñÀ¸·Î ÃÖ±Ù ¿Â¶óÀÎ °ÔÀçµÆ´Ù.